Малогабаритная вакуумная установка нанесения пленок методом магнетронного распыления со шлюзовой загрузкой 
Назначение:
Двустороннее нанесение многокомпонентных и многослойных металлических плёнок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Поштучная односторонняя обработка подложек Ø 100, 150, 200 мм или 5 шт. 60 х 48 мм с обеих сторон;
- Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
- Предварительный нагрев подложек и их очистка с помощью источников ионов;
- Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру механизмами горизонтального перемещения;
- Два оппозитно расположенные МРУ с четырьмя дисковыми мишенями Ø 100 мм;
- Поворотная заслонка с окном;
- Нанесение металлических слоёв в режиме постоянного тока;
- Нанесение диэлектрических слоёв в ВЧ-режиме;
- Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и туромолекулярного насосов;
- Возможность встраивания в «чистую» комнату;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 14 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 4,5 м2.
Скачать PDF