Малогабаритная вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления со шлюзовой загрузкой 
Назначение:
Двустороннее нанесение многокомпонентных и многослойных металлических тонких плёнок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Поштучная односторонняя обработка подложек Ø 100, 150, 200 мм или 5 шт. 60 х 48 мм;
- Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
- Предварительный нагрев подложек и их очистка в плазме ВЧ разряда перед нанесением;
- Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе механизмов горизонтального перемещения;
- МРУ с тремя дисковыми мишенями Ø 100 мм;
- Поворотная заслонка с окном;
- Нанесение металлических слоёв в режиме постоянного тока;
- Нанесение диэлектрических слоёв в ВЧ-режиме;
- Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и туромолекулярного насосов;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 14 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 4,5 м2.
Скачать PDF