Малогабаритная вакуумная установка нанесения пленок методом магнетронного распыления
Назначение:
Нанесение плёнок металлов и резистивных материалов методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Тип и количество МРУ в установке: постоянного тока – 2 шт.;
- Обработка подложек в одном технологическом цикле (двусторонняя обработка): 60 х 48 мм – 6 шт.;
- Микропроцессорная система управления;
- Безмасляная система откачки (агрегат с ТМН300);
- Мощность потребления не более 4,5 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2,5 м2.
Скачать PDF