Малогабаритная вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления
Назначение:
Нанесение плёнок металлов и резистивных материалов методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Тип и количество МРУ в установке: постоянного тока – 1 шт.;
- Обработка подложек в одном технологическом цикле (односторонняя обработка): Ø 150 мм – 2 шт.;
- Периодический поворот подложкодержателя на 180°;
- Микропроцессорная система управления;
- Безмасляная система откачки (агрегат с ТМН60);
- Мощность потребления не более 4,5 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2,5 м2.
Скачать PDF