Малогабаритная вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления
Назначение:
Нанесение плёнок металлов, резистивных материалов и диэлектриков методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Тип и количество МРУ в установке: Магна 01, 06 – 1 шт. постоянного тока; Магна 03 – 1 шт. ВЧ.
- Обработка подложек в одном технологическом цикле (односторонняя обработка): Ø 100 мм – 4 шт.;
- Периодический поворот подложкодержателя на 90°;
- Микропроцессорная система управления;
- Магна 01, 03 – безмасляная система откачки (агрегат с ТМН60);
- Магна 06 – безмасляная система откачки (ТМН300);
- Мощность потребления не более 4,5 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2,5 м2.
Скачать PDF