МАЛОГАБАРИТНАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ И ТЕРМИЧЕСКОГО ИСПАРЕНИЯ
МАТЕРИАЛА НА ПОДЛОЖКУ

МВУ ТМ МАГНА ТИС 02

НАЗНАЧЕНИЕ

Нанесение пленок металлов, резистивных материалов и диэлектриков на
подложки (пластины) методом магнетронного напыления и термического испарения.

ОСОБЕННОСТИ

 СХЕМА УСТАНОВКИ

• Групповая обработка подложек в одном технологическом цикле
  (односторонняя обработка): Ø100 мм – 4 шт., Ø150 мм – 2 шт.;
  (двусторонняя обработка): 60х48 – 6 шт.;
• МРУ постоянного тока или ВЧ – 2 шт.;
• Термический испаритель мощностью не более 900 Вт – 1шт.;
• Периодический поворот подложкодержателя на 90°;
• Ионно – плазменная очистка и нагрев подложек перед нанесением покрытия;
• Планетарный механизм вращения подложек;
• Микропроцессорная система управления;
• Безмасляная система откачки;
• Мощность потребления не более 4,5 кВТ.

  скачать pdf