+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

МВУ ТМ МАГНА ТИС 02

мву тм тисмагна_1

МАЛОГАБАРИТНАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК
МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ
И ТЕРМИЧЕСКОГО ИСПАРЕНИЯ МАТЕРИАЛА НА ПОДЛОЖКУ

МВУ ТМ МАГНА ТИС 02

мву тм тисмагна_2

ОСОБЕННОСТИ

  • Групповая обработка подложек в одном технологическом цикле
    (односторонняя обработка): Ø100 мм – 4 шт., Ø150 мм – 2 шт.;
    (двусторонняя обработка): 60х48 – 6 шт.;
  • МРУ постоянного тока или ВЧ – 2 шт.;
  • Термический испаритель мощностью не более 900 Вт – 1шт.;
  • Периодический поворот подложкодержателя на 90°;
  • Ионно – плазменная очистка и нагрев подложек перед нанесением покрытия;
  • Планетарный механизм вращения подложек;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Безмасляная система откачки;
  • Мощность потребления не более 4,5 кВТ.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

 

 

 

 

НАЗНАЧЕНИЕ

Нанесение пленок металлов, резистивных материалов и диэлектриков на
подложки (пластины) методом магнетронного напыления и термического испарения.

мву тм тисмагна_3