Малогабаритная вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления и термического испарения 
Назначение:
Нанесение плёнок металлов, резистивных материалов и диэлектриков.
Особенности:
- МРУ – 1 шт.;
- Термический испаритель – 1 шт.;
- Обработка подложек в одном технологическом цикле (односторонняя обработка): Ø 100 мм – 4 шт.;
- Периодический поворот подложкодержателя на 90 °;
- Микропроцессорная система управления;
- Безмасляная система откачки (ТМН300);
- Мощность потребления не более 4,5 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2,5 м2.
Скачать PDF