+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

МВУ ТМ ИЗОФАЗ 02

Малогабаритная вакуумная установка плазмохимического осаждения плёнок из газовой фазы с ICP источником

мвутмизофаз02-1

Назначение:

Осаждение диэлектрических материалов из газовой фазы с плазменной активацией в ВЧ разряде.

Особенности:

  • Рабочая поверхность стола-ВЧ электрода Ø180 мм;
  • Реактор с источником ICP плазмы;
  • Регулирование и автоматическое поддержание уровня мощности ВЧ ICP источника плазмы в диапазоне 400-600 Вт;
  • Нагрев подложек до 400° С;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Мощность потребления не более 3 кВт;
  • Безмасляная система откачки (ТМН300);
  • Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2,5 м2.

мвутмизофаз02-2 мвутмизофаз02-3  

9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF