Вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления со шлюзовой загрузкой
Назначение:
Нанесение многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких пленок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Индивидуальная обработка подложек в одном технологическом цикле: Ø 100мм, Ø 150мм, Ø 200мм – 1 шт;
- Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
- Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
- Размещение источника ионной очистки подложек вместо третьего магнетрона;
- Планарное МРУ с мишенью Ø280мм или мультикатодное МРУ с тремя мишенями Ø100мм;
- Скоростное нанесение из трех магнетронов одной пленки или последовательное нанесение двух-, трехслойных пленок с использованием заслонки;
- Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и турбомолекулярного насосов;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 16 кВт;
- Возможность встраивания в чистую комнату;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 5 м2.
Скачать PDF