Вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления
Назначение:
Нанесение плёнок металлов, резистивных материалов и диэлектриков методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Количество МРУ в установке — 2 шт.;
- Обработка подложек в одном технологическом цикле (односторонняя обработка): 60х48 — 17 шт.;
- Нагрев подложек до 300° С;
- Контроль толщины резистивной плёнки по сопротивлению;
- Количество ионных источников — 1 шт.;
- Безмасляная система откачки (ТМН1300);
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 4,5 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 3 м2.
Скачать PDF