ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК
МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ

МАГНА ТМ 7

НАЗНАЧЕНИЕ

Нанесение пленок металлов, резистивных материалов и диэлектриков на подложки (пластины) методом магнетронного распыления.

ОСОБЕННОСТИ

 СХЕМА УСТАНОВКИ

• Групповая обработка подложек или пластин в одном технологическом цикле: 60х48мм, Ø 76мм, Ø 100мм, Ø 150мм;
• Количество МРУ в установке – 2 шт.;
• Нагрев подложек до 300° С (контроль в процессе);
• Контроль толщины резистивной пленки по сопротивлению в процессе;
• Количество ионных источников – 1 шт.;
• Безмасляная система откачки;
• Микропроцессорная система управления;
• Мощность потребления не более 9 кВт.

  скачать pdf