Четырёхпозиционная вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления со шлюзовой загрузкой
Назначение:
Нанесение многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких плёнок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Групповая обработка подложек в одном технологическом цикле: Ø 76 мм – 15 шт.; Ø 100 мм – 9 шт.; Ø 150 мм – 3 шт.
- Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек (Позиция 1);
- Система переноса подложек из шлюзовой камеры в три рабочие позиции (2, 3, 4) транспортной каруселью;
- Планарное МРУ с мишенью Ø 280 мм и мультикатодное МРУ с тремя мишенями Ø 100 мм;
- Предварительный нагрев подложек и их очистка с помощью источника ионов;
- Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и туромолекулярного или криогенного насосов;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 20 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 6 м2.
Скачать PDF