Вакуумная установка нанесения плёнок методом магнетронного распыления непрерывного действия
Назначение:
Нанесение многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких пленок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления.
Особенности:
- Обработка подложек: Ø 76 мм, Ø 100 мм, Ø 150 мм;
- Две шлюзовые камеры для загрузки – выгрузки подложек;
- Конвейерная система транспортирования подложек из кассеты в кассету;
- Предварительный нагрев подложек с помощью лампового нагревателя и их очистка с помощью источников иона;
- Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и турбомолекулярного или криогенного насосов;
- Микропроцессорная система управления;
- Мощность потребления не более 30 кВт;
- Площадь, занимаемая одной установкой ~ 10 м2.
Скачать PDF