ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА НАНЕСЕНИЯ ПЛЕНОК
МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ СО ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ

МАГНА ТМ 200-01

НАЗНАЧЕНИЕ

Нанесение многокомпонентных и многослойных металлических или диэлектрических тонких пленок на подложки (пластины) методом магнетронного распыления.

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

• Индивидуальная и групповая обработка подложек на подложкодержателе в одном технологическом цикле: 60х48мм – 7 шт.; Ø 76мм – 4 шт.; Ø 100, 150, 200мм – 1 шт.;
• МРУ с одной мишенью Ø300мм или Мультикатодное МРУ с тремя мишенями Ø125мм;
• Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
• Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
• ВЧ рабочий стол с вертикальным перемещением, поддержкой температуры до +450°, с подачей аргона под пластину и прижимом;
• Нанесение из трех магнетронов одной пленки или последовательное нанесение двух-, трехслойных пленок с использованием заслонки;
• Безмасляная система откачки;
• Мощность потребления не более 16 кВт;
• Возможность встраивания в чистую комнату.

  скачать pdf