+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ИЗОФАЗ ТМ 200-01

Вакуумная установка плазмохимического осаждения слоев из газовой фазы с ICP источником и шлюзовой загрузкой

изофаз200-01-1

Назначение:

Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок. 

Особенности:

  • Групповая и индивидуальная обработка подложек в одном технологическом цикле:
    60х48 мм – 7 шт; Ø 76мм – 4 шт; 156х156 мм – 1 шт;
    Ø 50 мм – 11 шт; Ø 100 мм – 2 шт; Ø 150, 200мм – 1 шт;
  • Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
  • Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
  • Реактор с удаленным источником ICP плазмы;
  • Нагрев подложек до 400°С; 
  • Осаждение в термическом режиме и в режиме с удаленным источником ICP плазмы;
  • Порты для подключения ампул с прекурсором: с высоким давлением насыщенных паров – 2 шт; с низким давлением насыщенных паров – 2 шт. (опционально кол-во портов до 4 шт.)
  • Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и турбомолекулярного насосов;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Мощность потребления не более 5 кВт;
  • Возможность встраивания в чистую комнату;
  • Площадь, занимаемая одной установкой ~ 5 м2.

 

 

 

 

 

 

 

 

9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF