АО НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ ТОЧНОГО МАШИНОСТРОЕНИЯ
ИЗОФАЗ ТМ 200-01
ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ С ICP ИСТОЧНИКОМ И ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ
ИЗОФАЗ ТМ 200-01
НАЗНАЧЕНИЕ:
Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок.
ОСОБЕННОСТИ
СХЕМА УСТАНОВКИ
Групповая и индивидуальная обработка подложек на подложкодержателе в одном технологическом цикле: 60х48 мм – 7 шт.; Ø 76мм – 4 шт.; Ø 100, 150, 200мм – 1 шт.;
Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе робота-манипулятора;
Осаждение в термическом режиме и в режиме с удаленным источником ICP плазмы;
Порты для подключения ампул с прекурсором: с высоким давлением насыщенных паров – 2 шт; с низким давлением насыщенных паров – 2 шт. (опционально до 4 шт.);