ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО
ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ
С ICP ИСТОЧНИКОМ И ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ

ИЗОФАЗ ТМ 200-01

НАЗНАЧЕНИЕ:

Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок.

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

• Групповая и индивидуальная обработка подложек на подложкодержателе в одном технологическом цикле:
  60х48 мм – 7 шт.; Ø 76мм – 4 шт.; Ø 100, 150, 200мм – 1 шт.;
• Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
• Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в
  рабочую камеру на основе робота-манипулятора;
• Осаждение в термическом режиме и в режиме с удаленным источником ICP плазмы;
• Порты для подключения ампул с прекурсором: с высоким давлением
  насыщенных паров – 2 шт; с низким давлением насыщенных паров – 2 шт.
  (опционально до 4 шт.);
• Мощность потребления не более 14 кВт;
• Безмасляная система откачки;
• Возможность встраивания в чистую комнату.

    Скачать PDF