+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ИЗОФАЗ ТМ 200-01

изофаз тм 200-01_1

ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО
ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ
С ICP ИСТОЧНИКОМ И ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ

ИЗОФАЗ ТМ 200-01

НАЗНАЧЕНИЕ:

Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок.

изофаз тм 200-01_2

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Групповая и индивидуальная обработка подложек на подложкодержателе в одном технологическом цикле:
    60х48 мм – 7 шт.; Ø 76мм – 4 шт.; Ø 100, 150, 200мм – 1 шт.;
  • Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
  • Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в
    рабочую камеру на основе робота-манипулятора;
  • Осаждение в термическом режиме и в режиме с удаленным источником ICP плазмы;
  • Порты для подключения ампул с прекурсором: с высоким давлением
    насыщенных паров – 2 шт; с низким давлением насыщенных паров – 2 шт.
    (опционально до 4 шт.);
  • Мощность потребления не более 14 кВт;
  • Безмасляная система откачки;
  • Возможность встраивания в чистую комнату.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

 

изофаз тм 200-01_3