ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО
ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ
С ICP ИСТОЧНИКОМ

ИЗОФАЗ ТМ 200-01

НАЗНАЧЕНИЕ:

Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок.

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

• Обработка пластин на рабочем столе: Ø 76, 100, 150, 200мм;
• Транспортная система переноса пластин на основе манипулятора;
• Различные варианты исполнения системы загрузки: шлюзовая, из кассеты в кассету, SMIF контейнер;
• Осаждение в термическом режиме и в режиме с удаленным источником ICP плазмы;
• Порты для подключения ампул с прекурсором: с высоким давлением
  насыщенных паров – 2 шт; с низким давлением насыщенных паров – 2 шт.
  (опционально до 4 шт.);
• Мощность потребления не более 14 кВт;
• Безмасляная система откачки;
• Возможность встраивания в чистую комнату.

  скачать pdf