АО НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ ТОЧНОГО МАШИНОСТРОЕНИЯ
ИЗОФАЗ ТМ 200-01К
ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО
ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ
С ICP ИСТОЧНИКОМ И ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ
ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ
ИЗОФАЗ ТМ 200-01К
НАЗНАЧЕНИЕ:
Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок.
ОСОБЕННОСТИ
СХЕМА УСТАНОВКИ
Индивидуальная обработка подложек в одном технологическом цикле:
Ø 76, 100, 150, 200 мм — 1 шт.;
Осаждение в термическом режиме и в режиме с удаленным источником ICP плазмы;
Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
Порты для подключения ампул с прекурсором:
с высоким давлением насыщенных паров – 2 шт;
с низким давлением насыщенных паров – 2 шт.(опционально до 4 шт);
Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек из кассеты в кассету;