+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ИЗОФАЗ ТМ 200-01К

Вакуумная установка плазмохимического осаждения слоев из газовой фазы с ICP источником и шлюзовой загрузкой

Назначение:

Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок. 

Особенности:

  • Индивидуальная обработка подложек в одном технологическом цикле:
    Ø 100, 150, 200 мм — 1 шт.
  • Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек;
  • Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
  • Реактор с удаленным источником ICP плазмы;
  • Нагрев подложек до 400°С; 
  • Осаждение в термическом режиме и в режиме с удаленным источником ICP плазмы;
  • Порты для подключения ампул с прекурсором: с высоким давлением насыщенных паров – 2 шт; с низким давлением насыщенных паров – 2 шт. (опционально кол-во портов до 4 шт.)
  • Безмасляная (сухая) откачка на базе форвакуумного и турбомолекулярного насосов;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Мощность потребления не более 5 кВт;
  • Возможность встраивания в чистую комнату;
  • Площадь, занимаемая одной установкой ~ 5 м2.

 

 

 

 

 

 

 

 

9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

Error

An error occurred.

Sorry, the page you are looking for is currently unavailable.
Please try again later.

If you are the system administrator of this resource then you should check the error log for details.

Faithfully yours, nginx.