ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО
ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ
С ICP ИСТОЧНИКОМ И ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ
ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ

ИЗОФАЗ ТМ 200-01К

НАЗНАЧЕНИЕ:

Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок.

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

• Индивидуальная обработка подложек в одном технологическом цикле:
  Ø 76, 100, 150, 200 мм — 1 шт.;
• Осаждение в термическом режиме и в режиме с удаленным источником ICP плазмы;
  Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
• Порты для подключения ампул с прекурсором:
  с высоким давлением насыщенных паров – 2 шт;
  с низким давлением насыщенных паров – 2 шт.(опционально до 4 шт);
• Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек из кассеты в кассету;
• Нагрев подложек до 400°С;
• Мощность потребления не более 14 кВт;
• Безмасляная система откачки;
• Возможность встраивания в чистую комнату;
• Может входить в кластерный комплекс.

    Скачать PDF