+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ИЗОФАЗ ТМ 200-01К

изофаз тм 200-01к_1

ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО
ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ ИЗ ГАЗОВОЙ ФАЗЫ
С ICP ИСТОЧНИКОМ И ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ
ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ

ИЗОФАЗ ТМ 200-01К

НАЗНАЧЕНИЕ:

Атомно-слоевое осаждение сверхтонких пленок.

изофаз тм 200-01к_2

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Индивидуальная обработка подложек в одном технологическом цикле:
    Ø 100, 150, 200 мм — 1 шт.;
  • Осаждение в термическом режиме и в режиме с удаленным источником ICP плазмы;
    Транспортная система переноса подложек из шлюзовой камеры в рабочую камеру на основе манипулятора;
  • Порты для подключения ампул с прекурсором:
    с высоким давлением насыщенных паров – 2 шт;
    с низким давлением насыщенных паров – 2 шт.(опционально до 4 шт);
  • Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки подложек из кассеты в кассету;
  • Нагрев подложек до 400°С;
  • Мощность потребления не более 14 кВт;
  • Безмасляная система откачки;
  • Возможность встраивания в чистую комнату.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

 

изофаз тм 200-01к_3