+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ИЗОТРОН ТМ-1

Малогабаритная вакуумная установка газофазного осаждения слоёв при пониженном давлении

изотронтм1_1

Назначение:

Газофазное осаждение слоёв гидрида и оксида кремния при пониженном давлении.

Особенности:

  • Групповая обработка до 30 пластин до Ø 100 мм;
  • Кварцевый реактор с термостатируемой рабочей зоной;
  • Диапазон рабочих температур 300-900° С;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Рабочие газы: N2, О2, NH3, SiH4, Ar;
  • Форвакуумная (безмасляная) система откачки;
  • Мощность потребления не более 12 кВт;
  • Возможность встраивания в «чистую» комнату;
  • Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2 м2.

изотронтм1_3 изотронтм1_2

9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF