+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ИЗОТРОН ТМ-1

 изотронтм1

МАЛОГАБАРИТНАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
ГАЗОФАЗНОГО ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ
ПРИ ПОНИЖЕННОМ ДАВЛЕНИИ

ИЗОТРОН ТМ 1

НАЗНАЧЕНИЕ:

Газофазное осаждение слоев нитрида и оксида
кремния при пониженном давлении.

изотронтм2

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Групповая обработка до 50 пластин до Ø 100 мм;
  • Кварцевый реактор с термостатируемой рабочей зоной;
  • Диапазон рабочих температур 300-900°С;
  • Микропроцессорная система управления;
  • Рабочие газы: N₂, O₂, NH₃, SiH₄, Ar;
  • Безмасляная система откачки;
  • Мощность потребления не более 12 кВт;
  • Возможность встраивания в чистую комнату.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

 

изотронтм3