МАЛОГАБАРИТНАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
ГАЗОФАЗНОГО ОСАЖДЕНИЯ СЛОЕВ
ПРИ ПОНИЖЕННОМ ДАВЛЕНИИ

ИЗОТРОН ТМ 1

НАЗНАЧЕНИЕ:

Газофазное осаждение слоев нитрида и оксида
кремния при пониженном давлении.

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

• Групповая обработка до 50 пластин до Ø 100 мм;
• Кварцевый реактор с термостатируемой рабочей зоной;
• Диапазон рабочих температур 300-900°С;
• Микропроцессорная система управления;
• Рабочие газы: N₂, O₂, NH₃, SiH₄, Ar;
• Безмасляная система откачки;
• Мощность потребления не более 12 кВт;
• Возможность встраивания в чистую комнату.

  скачать pdf