ИЗОПЛАЗ ТМ-1

Малогабаритная вакуумная установка плазмохимического осаждения диэлектрических слоёв при пониженном давлении

Назначение:

Осаждение диэлектрических легированных и нелегированных слоёв оксида кремния и слоёв нитрида кремния при пониженном давлении с плазменной активацией реагентов.

Особенности:

• Групповая обработка до 30 пластин до Ø 100 мм;
• Кварцевый реактор с термостатируемой рабочей зоной;
• Диапазон рабочих температур 200-500° С;
• Рабочие газы: PH₃, N₂O_, О₂, NH₃, SiH_4, N₂;
• Форвакуумная (безмасляная) система откачки;
• Мощность потребления не более 7 кВт;
• Возможность встраивания в «чистую» комнату;
• Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2 м².

   Скачать PDF