+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ИЗОПЛАЗ ТМ-1

Малогабаритная вакуумная установка плазмохимического осаждения диэлектрических слоёв при пониженном давлении

изоплазтм1_1

Назначение:

Осаждение диэлектрических легированных и нелегированных слоёв оксида кремния и слоёв нитрида кремния при пониженном давлении с плазменной активацией реагентов.

Особенности:

  • Групповая обработка до 30 пластин до Ø 100 мм;
  • Кварцевый реактор с термостатируемой рабочей зоной;
  • Диапазон рабочих температур 200-500° С;
  • Рабочие газы: PH3, N2O, О2, NH3, SiH4, N2;
  • Форвакуумная (безмасляная) система откачки;
  • Мощность потребления не более 7 кВт;
  • Возможность встраивания в «чистую» комнату;
  • Площадь, занимаемая одной установкой ~ 2 м2.

  изоплазтм1_2   

 9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF