КОМПЛЕКТ УСТАНОВОК ПОЛУЧЕНИЯ
ВЫСОКОЧИСТЫХ ГИДРИДНЫХ МАТЕРИАЛОВ
МЕТОДОМ РЕКТИФИКАЦИИ

ГИДРИД

НАЗНАЧЕНИЕ:

Получение высокочистых гидридных материалов с чистотой
99,99994 методом периодической высокотемпературной ректификации.

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

• Гидридные материалы для очистки:
  Салют 5 – фосфин (Ph₃);
  Салют 6 – моносилан (SiH₄);
  Салют 7 – моносилан (SiH₄);
  Салют 8 – аммиак (Nh₃);
• Автоматизированное управление;
• Химически стойкая вакуумная система
  откачки;
• Габариты технологических шахт для каждой
  колонны (ДxШхВ) – 1,5х1,0х6,8 м;
• Мощность потребления не более 20 кВт.

    Скачать PDF