ГИДРИД

Комплект установок получения высокочистых гидридных материалов методом ректификации

Назначение:

Получение высокочистых гидридных материалов с чистотой 99,99994 методом периодической низкотемпературной ректификации в промышленных объёмах.

Особенности:

• Гидридные материалы для очистки: Салют 5 – фосфин (PH₄); Салют 6 – моносилан (SiH₄); Салют 7 – моносилан (SiH₄); Салют 8 – аммиак (NH₃);
• Автоматизированное управление;
• Химически стойкая вакуумная система откачки;
• Габариты технологических шахт для каждой колонны (ДхШхВ) – 1,5х1,0х6,8 м;
• Мощность потребления не более 20 кВт.

  Скачать PDF