+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ГИДРИД

Комплект установок получения высокочистых гидридных материалов методом ректификации

гидрид-1

Назначение:

Получение высокочистых гидридных материалов с чистотой 99,99994 методом периодической низкотемпературной ректификации в промышленных объёмах.

Особенности:

  • Гидридные материалы для очистки: Салют 5 – фосфин (PH4); Салют 6 – моносилан (SiH4); Салют 7 – моносилан (SiH4); Салют 8 – аммиак (NH3);
  • Автоматизированное управление;
  • Химически стойкая вакуумная система откачки;
  • Габариты технологических шахт для каждой колонны (ДхШхВ) – 1,5х1,0х6,8 м;
  • Мощность потребления не более 20 кВт.

гидрид-3 гидрид-2

9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF