Экспериментальная технологическая установка с гибридной вакуумно-плазменной системой, состоящей из геликонового, магнетронного и дугового разрядов.
Назначение:
Инновационная Установка «Геликон-ТМ» спроектирована для проведения исследований и разработки широкого класса новых технологических процессов нанесения функциональных покрытий различных материалов, в т.ч. метаматериалов, методами магнетронного распыления и/или электродугового испарения в плазме геликонного разряда.
Плазмостимулированные процессы осаждения с регулируемой плотностью и энергией плазменного воздействия обеспечивают управляемое наноструктурирование покрытий, которые могут использоваться в различных областях науки и техники (нано-, микро-, опто- фото- и радиоэлектроники, в медицине, энергохранении и др.). Геликонный разряд эффективно передает на большое расстояние в плазму полезную мощность от ВЧ индуктора, обеспечивая получение плазменного разряда с плотность ионизации до 1012 см-3 и энергией ионов от 10 до 100 эВ в зоне обработки пластин. Это позволяет исследовать процессы «сухого» травления и очистки, а также плазмостимулированного газофазного осаждения.
Таким образом, данная установка может впервые обеспечить процессы нанесение покрытий одновременно методами физического (physical vapor deposition-PVD) и химического (plasma enhanced chemical vapor deposition — PE CVD) осаждения материалов.
Скачать PDF