+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

ГЕЛИКОН ТМ

геликон_1

ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНАЯ ВАКУУМНАЯ УСТАНОВКА
НАНЕСЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ, ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ
И ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПОКРЫТИЙ

ГЕЛИКОН ТМ

геликон_2

НАЗНАЧЕНИЕ:

Ионно-плазменное нанесение однокомпонентных или многокомпонентных металлических, диэлектрических и полупроводниковых слоев.

ОСОБЕННОСТИ

Инновационная установка «Геликон-ТМ» спроектирована для проведения исследований и разработки широкого класса новых технологических процессов нанесения функциональных покрытий различных материалов, в т.ч. метаматериалов, методами магнетронного распыления и/или электродугового испарения в плазме геликонного разряда. Плазмостимулированные процессы осаждения с регулируемой плотностью и энергией плазменного воздействия обеспечивают управляемое наноструктурирование покрытий, которые могут использоваться в различных областях науки и техники (нано– , микро–, опто–, фото–, и радиоэлектронике, в медицине, энергохранении и др.). Геликонные волны эффективно передают на большое расстояние в плазму полезную мощность -3 от ВЧ индуктора, обеспечивая получение плазменного разряда с плотностью ионизации до 1012 см и энергией ионов от 10 до 100 эВ в зоне обработки пластин. Это позволяет исследовать процессы «сухого» травления и очистки, а также плазмостимулированного газофазного осаждения.  Таким образом, данная установка может обеспечить процессы нанесения покрытий одновременно методами физического (physical vapor deposition) и химического (plasma enhanced chemical vapor deposition – PE CVD) осаждения материалов.
 
 9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF