+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

Вакуумные установки плазмохимического осаждения слоёв из газовой
фазы с ICP источником (ICPPECVD)

ДЛЯ СЕРИЙНОГО ПРОИЗВОДСТВА ИЗДЕЛИЙ


магнатм300

 магнатм200-01мини


магнатм200-01мини

 

изофазтм200-01кмини

 изофазтм200-01кмини
ИЗОФАЗ ТМ 300 ИЗОФАЗ ТМ 200-01 ИЗОФАЗ ТМ 200-02 ИЗОФАЗ ТМ 200-01К  ИЗОФАЗ ТМ 200-02К

ДЛЯ МЕЛКОСЕРИЙНОГО ПРОИЗВОДСТВА, НАУЧНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ И ТЕХНИЧЕСКОГО ОБУЧЕНИЯ

   
мвутмизофаз02мини
   
    МВУ ТМ ИЗОФАЗ 02