+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

Вакуумные установки плазмохимического осаждения слоёв из газовой
фазы с ICP источником (ICPPECVD)

ДЛЯ МЕЛКОСЕРИЙНОГО ПРОИЗВОДСТВА, НАУЧНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ И ТЕХНИЧЕСКОГО ОБУЧЕНИЯ

     
  ИЗОФАЗ ТМ 150 МВУ ТМ ИЗОФАЗ 02 МВУ ТМ ИЗОФАЗ 03