+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

Вакуумные установки плазмохимического осаждения слоёв из газовой
фазы с ICP источником (ICPPECVD)

ДЛЯ СЕРИЙНОГО ПРОИЗВОДСТВА ИЗДЕЛИЙ


магнатм300

 

 

   изофазтм200-01кмини
ИЗОФАЗ ТМ 300 ИЗОФАЗ ТМ 200-01      ИЗОФАЗ ТМ 200-02

ДЛЯ МЕЛКОСЕРИЙНОГО ПРОИЗВОДСТВА, НАУЧНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ И ТЕХНИЧЕСКОГО ОБУЧЕНИЯ

   
мвутмизофаз02мини
   
    МВУ ТМ ИЗОФАЗ 02