+7 (495) 229-7501    |    info@niitm.ru    |        |    ENG

БТО ТМ 200К

1

УСТАНОВКА БЫСТРОГО ТЕРМИЧЕСКОГО ОТЖИГА
СО ШЛЮЗОВОЙ ЗАГРУЗКОЙ ИЗ КАССЕТЫ В КАССЕТУ

БТО ТМ 200

        НАЗНАЧЕНИЕ

          Отжиг ионно-легированных слоев; формирование омических контактов; получение силицидов металлов, тонких окисных и диэлектрических пленок; рекристаллизация аморфных и поликристаллических пленок и др.

плазма тм 200-02к-2

ОСОБЕННОСТИ

СХЕМА УСТАНОВКИ

  • Индивидуальная обработка подложек на подложкодержателе в одном технологическом цикле: Ø 76, 100, 150, 200мм – 1 шт.;
  • Транспортная система переноса пластин из шлюзовой камеры в реактор на основе манипулятора;
  • Шлюзовая камера для загрузки – выгрузки пластин в кассете;
  • Многозонный ИК−нагрев пластин до температуры 1200°С;
  • Максимальная скорость нагрева, не менее 100°С/с;
  • Скорость охлаждения от +1200°С до +700°С, не менее 35°С/с;
  • Скорость охлаждения от +700°С до +200°С, не менее 35°С/мин;
  • Узел вращения пластины для повышения равномерности нагрева;
  • Рабочая камера охлаждается до +16°С…+25°С;
  • Безмасляная откачка в случае использования вакуума;
  • Может входить в кластерный комплекс.

  9c58e38e9870c3807495c61427c56ed5  Скачать PDF

bto_200_3